●ITRS與光刻技術發展

   《今日材料》（MaterialsToday）是Elsevier出版集團旗下的材料科學評論期刊，是一份在材料學業界享有盛名的出版物。《今日材料》在2008年評選出材料科學領域在過去50年間的十大進展。其中一些科研發現改變了該領域的研究方向，另外一些則為材料科學領域提供了新的機會和研究方向。

   令人驚訝的是，排在首位的并不是某項具體的研究成果，而是一種優先選擇研究方向和制定研發計劃的方式——ITRS。《國際半導體技術藍圖》（ITRS）通過設定創新和技術需求的目標推動了微電子行業的巨大進展。ITRS融合了科學、技術和經濟學，很難想象在材料學領域還有什么能超越它對這個領域進展所起的推動作用。

    ITRS全稱為International Technology Roadmap forSemiconductors，中文譯名為國際半導體技術藍圖。

ITRS發布的權威研究報告封面

   ITRS是由歐洲、日本、韓國、臺灣、美國五個主要的芯片制造地區發起的。

   發起組織分別是：

    EuropeanSemiconductor Industry Association （ESIA，歐洲半導體工業協會）；
    the JapanElectronics and Information Technology Industries Association（JEITA，日本電子與信息技術工業協會）；
    the KoreanSemiconductor Industry Association （KSIA，韓國半導體工業協會）；
    the TaiwanSemiconductor Industry Association （TSIA,臺灣半導體工業協會）；
    the UnitedStates Semiconductor Industry Association（SIA，美國半導體工業聯盟）。

   ITRS的目的是確保集成電路（IC）和使用IC的產品在成本效益基礎上的性能改進，從而持續半導體產業的健康和成功。

   ITRS每年會組織會議對半導體行業的發展方向進行討論，通過全球芯片制造商、設備供應商、研究團體和consortia的協作努力，ITRS團隊識別關鍵的挑戰，鼓勵創新解決方案，并歡迎來自半導體團體的分享。而最為重要的則是每年在會后發布的ROADMAP（線路圖），ITRS在業內發布的ROADMAP具有半導體行業最高權威性。

半導體光刻工藝40年發展歷程與預測

   上圖為依據ITRS報告制作的半導體光刻回顧與展望路線圖，從圖中我們可以看到EVU技術雖然進展坎坷商業化困難重重，但是這項技術前景仍然看好。但是目前最為實際的情況是193nm光刻技術借助于沉浸式技術，已經能夠延續到11nm工藝，這為今后幾年的半導體器件蝕刻提供了穩定的技術支撐。